CZA-4N/FX mfululizo inert gesi purifier

CZA-4N / FX mfululizo
Kanuni ya usafishaji wa gesi isiyo na nguvu ni kutumia adsorbent ya alloy katika joto la juu inaweza kujibu na uchafu kama oksijeni, nitrojeni, maji, kaboni dioksidi na hydrocarbons kuzalisha asili ya kiwanja thabiti au suluhisho thabiti kuondoa uchafu hapo juu katika gesi isiyo na nguvu kama argon, helium, radon, xenon, na hivyo kufikia lengo la usafi, gesi safi ya juu iliyopatikana baada ya kusafishwa imetumiwa sana katika uchambuzi na utafiti wa kisayansi wa sekta ya viwanda kama semiconductor, elektroniki, metallurgy, viwanda vya betri ya lithium, fiber optic.
Makala ya bidhaa
n usafi wa kina, si tu kuondoa O₂uchafu zaidi, na pia inaweza kuondoa N₂Uchafu wa inert, ambayo kwa ujumla haiwezi kusafishwa;
n Purifier hii ni miundo ya minara mbili, seti moja ya kazi, seti nyingine ya ziada, juu ya mashine mbili kusafisha matumizi;
Joto la kazi la chini, matumizi ya nishati ya chini.
n mfululizo huu purifier iliyoundwa na kabla ya kusafisha mnara, kabla ya chuma adsorption mnara imeondolewa uchafu zaidi hai, hivyo kubwa kupanua matumizi ya chuma adsorption mnara
vigezo kiufundi

Jina la kifaa	mfano wa vifaa	Njia ya kazi	Maelezo
Purifier ya gesi ya inert	CZA-4N	nusu moja kwa moja	Ar
	FX□-Z	nusu moja kwa moja	Kuchagua Ar, He, Xe, Ke au Ne
Mahitaji ya gesi Ar、He	usafi	≥99.99% kawaida chupa safi argon, argon kioevu
	Mahitaji ya uchafu	O2≤200PPm, H2O≤1000PPm，N2≤100PPm
pato gesi safi	usafi	≥99.9999%
	Maudhui ya uchafu	O2≤0.5PPm； N2≤0.5PPm； H2O≤1PPm (yaani, hatua ya mvua≤-76 ℃); CO+CO2≤0.1PPm； Idadi ya chembe za vumbi (≥0.3μm) 3-5pcs / l
Shinikizo la kazi	0～1.0MPa
Uchunguzi wa gesi	1～4Nm3/h
Maelezo	Inaweza kubuni na kutengeneza kulingana na mahitaji ya mtumiaji